Intel достигает прорыва в освоении передовой High-NA EUV литографии
• 0 минут чтения
Intel успешно обработала 30 000 кремниевых пластин на новейших литографических системах ASML High-NA EUV в своей исследовательской лаборатории. Достижение демонстрирует лидерство компании в освоении перспективной 1,4-нанометровой технологии производства чипов.
Технологическая гонка за полупроводники: как производство чипов определяет мировое лидерство
• 0 минут чтения
В эпоху искусственного интеллекта контроль над производством передовых полупроводников становится ключевым фактором геополитического влияния. Страны активно инвестируют в развитие собственных мощностей, стремясь обеспечить технологический суверенитет в этой критически важной отрасли.